Основными требованиями, предъявляемыми к источникам электропитания различных систем плазменных установок, являются надежная работа и стабильность параметров при длительных режимах эксплуатации, в некоторых случаях круглосуточно. Даже кратковременное отклонение выходных параметров, приводит к нарушению режима работы установки и снижению качества получаемых материалов и покрытий.
Источники выполнены на мощных быстродействующих транзисторных и диодных модулях по схемам с высокочастотными инверторами, работающими на частотах до 30 кГц. Представляют собой функционально завершенные изделия и собраны в 19 дюймовых конструктивах.
Источник электропитания дугового разряда
Источник электропитания систем источника плазмы с сепарацией потока типа SPS-1
Источник электропитания прямоточного источника плазмы - испарителя
Источник электропитания испарителя включает два источника - источник питания дугового разряда испарителя и источник питания электромагнитной фокусирующей катушки. Стабилизированный источник питания дугового разряда испарителя имеет регулируемый рабочий ток от 30 до 120 А при рабочем напряжении до 40 В. Стабилизированный источник питания фокусирующей катушки имеет регулируемый рабочий ток от 0 до 1 А при рабочем напряжении до 100 В.
Стойка источников электропитания установки
Стойка источников электропитания установки, оснащенной двумя источниками плазмы с сепарацией потока SPS-1 и четырьмя прямоточными источниками плазмы - испарителями. Стойка включает два источника питания дугового разряда и два источника питания систем источников плазмы SPS-1, четыре источника электропитания прямоточных источников плазмы - испарителей и высоковольтный источник питания подложки.