Установка для получения многокомпонентных, многослойных материалов и покрытий.

Установка предназначена для получения многокомпонентных, многослойных, наноструктурированных материалов и покрытий. На установке реализован технология CALT SID - Cathodic Arc Low Temperature Separated Ion Deposition - нанесение покрытий из сепарированной плазмы дугового разряда при низкой температуре.

Установка оснащена:

• двумя электродуговыми источками плазмы SPS-1 с сепарацией потока плазмы;
• одним прямоточным источником плазмы - испарителем;
• высокопроизводительной вакуумной системой;
• трехканальной системой подачи рабочего газа;
• планетарным механизмом вращения изделий;
• источником питания подложки, работающим как в постоянном так и импульсном режиме;
• эффективной высокочастотной защитой изделий от повреждения микродуговыми разрядами;
• малогабаритными высокочастотными источниками питания;
• современной микропроцессорной системой управления.

Посмотрите еще об установке, более подробно о характеристиках узлов и систем установки и реализуемых технологиях.