Вакуумные камеры

 

УЗЛЫ И СИСТЕМЫ

Вакуумные камеры

Система охлаждения и прогрева

Механизмы вращения

Вакуумная система

Газовая система

Источники плазмы

Источники электропитания

Источник питания подложки

Система управления

УСТАНОВКИ

Характеристики узлов и систем.

Характеристики узлов и систем установок.

1. Вакуумные камеры.
2. Водяные системы охлаждения и прогрева узлов установки.
3. Механизмы вращения изделий.
4. Вакуумная система.
5. Система подачи газа.
6. Источники плазмы.
7. Источники электропитания.
8. Высоковольтный источник питания подложки.
9. Системы управления.

  1. Вакуумные камеры:
    • типы вакуумных камер:
      • камерного типа, с боковой дверью;
      • шахтного типа, с крышкой сверху - для крупногабаритных и тяжелых изделий, загружаемых с использованием подъемных механизмов;
    • размеры камер от Ø600×600 мм (~200 л) до Ø1200×1400 мм (~1600 л);
    • изготовлены из малогазящих нержавеющих сталей;
    • имеют водяную систему охлаждения;
    • имеют систему подогрева горячей водой, для предотвращения кондесации паров воды и обезгаживания стенок камеры во время открытия камеры и откачки.
      Посмотрите подробнее.

  2. Водяные системы охлаждения и прогрева узлов установки.
    • типы систем:
    • с открытым сливом - имеют открытую "воронку";
    • с закрытым сливом для закольцованных систем автономного охлаждения, имеющих насосы для циркуляции воды;
    • имеют автономную автоматизированную систему нагрева воды для прогрева стенок камеры и других узлов;
    • имеют системы сигнализации наличия протока воды в отдельных каналах и аварийного отключения соответствующих устройств.
      Посмотрите подробнее.

  3. Механизмы вращения изделий.
    Типы механизмов вращений:
    • планетарный - одновременное вращения изделий вокруг своей оси и вокруг оси камеры;
    • двойной планетарный - вращение вокруг своей оси, вокруг оси сателлита и вокруг оси камеры;
    • механизм, обеспечивающий вращения в двух перпендикулярных или наклонных плоскостях.
      Посмотрите подробнее.

  4. Вакуумная система:
    • обеспечивает:
      • остаточный вакуум на уровне 10-5 мм.рт.ст.;
      • длительность откачки рабочей камеры до предельного вакуума, не дольше 12-15 мин;
    • построена на базе высокопроизводительного диффузионного насоса и механических пластинчато-роторного и двухроторного насосов;
    • при особых требованиях к вакууму изготавливается на базе турбомолекулярных, адсорбционных и других насосов.
      Посмотрие подробнее.

  5. Система подачи газа:
    • состоит из:
      • исполнительного блока на базе высокоточных расходомеров газа и импульсных клапанов-натекателей;
      • электронного программируемого блока управления.
    • обеспечивает подачу смеси рабочих газов в камеру с контролем и автоматическим поддержанием:
      • соотношения газов в смеси;
      • давления в рабочей камере.
    • выводит на индикатор значения:
      • процентного соотношения газов в смеси;
      • текущих расходов различных газов;
      • давления в рабочей камере.
        Посмотрите подробнее.

  6. Источники плазмы.
    Установки оснащаются:
    • электродуговыми источниками плазмы с сепарацией потока SPS-1, обеспечивающими:
      • скорости нанесения покрытий до 40 мкм/ч;
      • скорости травления поверхности до 10 мкм/ч;
    • прямоточными электродуговыми источниками плазмы (испарителями);
    • электродуговыми источниками с двухступенчатым разрядом - для ионной обработки изделий;
    • источниками металлических ионов с энергиями до 100 кэВ (имплантерами) - для процессов ионной имплантации.
      Установки также могут оснащаться источниками ионов, плазмы и другими устройствами, разработанными другими фирмами - нашими партнерами.
      Посмотрите подробнее об источниках плазмы.

  7. Источники электропитания:
    • выполнены на основе современных технических решений с преобразованием электроэнергии на высокой частоте;
    • имеют стабилизацию по токам и напряжениям;
    • имеют микропроцессорную систему управления;
    • имеют небольшие габариты и вес.
      Посмотрите подробнее.

  8. Высоковольтный источник питания подложки:
    • имеет режимы работы:
      • постоянного регулируемого стабилизированного напряжения величиной до 1500В;
      • импульсного напряжения с регулируемыми амплитудой, длительностью и частотой (до 10 кГц) следования импульсов;
    • имеет высокоэффективную быстродействующую систему защиты изделий от повреждения микродуговыми разрядами.
      Посмотрите подробнее.

  9. Системы управления:
    • полностью автоматизированные на базе промышленных компьютеров и контроллеров;
    • с частичной автоматизацией на базе промышленного контроллера для модернизации установок старых моделей, системы и узлы которых не позволяют полностью автоматизировать процесс.
      Посмотрите подробнее.