Прямоточный источник плазмы - испаритель

Прямоточный электродуговой источник плазмы широко используется для нанесения твердых, износостойких, коррозионностойких, декоративных покрытий на режущий инструмент и других изделия. Недостатком источника является наличие в потоке плазмы микрочастиц материала катода и низкая степень ионизации газовой компоненты плазмы. Наличие микрочастиц в потоке плазмы не позволяет получать высококачественные однородные наноструктурированные многокомпонентные и многослойные материалы и покрытия. Из-за большого количества "капель" источник практически неприменим для получения материалов и покрытий на основе относительно легкоплавких материалов. Например, для получения материалов и покрытий на основе окислов и нитридов алюминия.

Ниже приведены схема прямоточного источника плазмы - испарителя, фотографии источника и типовые повреждения покрытия микрочастицами материала катода. Посмотрите:

• сравнение морфологии поверхности покрытий, полученных с прямоточным источником плазмы и с источником с сепарацией потока - SPS-1;
• сравнение некоторых характеристик покрытий, полученных с прямоточным источником плазмы и с источником с сепарацией потока SPS-1;
• некоторые характеристики прямоточного источника плазмы в сравнении с источником с сепарацией потока - SPS-1.

 

СХЕМА ПРЯМОТОЧНОГО ИСТОЧНИКА ПЛАЗМЫ - ИСПАРИТЕЛЯ

 

ПРЯМОТОЧНЫЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ - ИСПАРИТЕЛЬ (справа - вид из вакуумной камеры)

 

ТИПОВЫЕ ПОВРЕЖДЕНИЯ ПОКРЫТИЯ МИКРОЧАСТИЦАМИ МАТЕРИАЛА КАТОДА
(внизу показаны отдельные повреждения в увеличенном масштабе)