Вакуумные камеры

 

ИСТОЧНИКИ ПЛАЗМЫ

Источник сепарированной газометаллической плазмы

Прямоточный источник плазмы - испаритель

Имплантер

ИСТОЧНИКИ ПЛАЗМЫ

УЗЛЫ И СИСТЕМЫ

УСТАНОВКИ

Источники плазмы.

Наши установки комплектуются источниками плазмы и ионов разных типов и назначений. Кроме наших источников, установки могут комплектоваться источниками других типов - разработки наших партнеров.

Наши типовые источники плазмы.

Источник сепарированной газометаллической плазмы SPS-1 (Separated Plasma Source).
Прямоточный источник плазмы (испаритель).
Электродуговой источник с двухступенчатым разрядом.
Источник металлических высокоэнергетических ионов (имплантер).

Источник сепарированной газометаллической плазмы SPS-1 (Separated Plasma Source).

Источник сепарированной газометаллической плазмы, очищенной от микрочастиц и нейтральной компоненты. Предназначен для получения высококачественных наноструктурированных материалов и покрытий, нано- и микросистем, ионной обработки поверхности и других процессов. Посмотрите подробнее.

Прямоточный источник плазмы (испаритель).

Прямоточный источник металлической плазмы (испаритель). Широко используется для получения твердых, износостойких, коррозионностойких, декоративных покрытий на режущем инструменте и других изделиях. Недостатком источника является наличие микрочастиц материала катода в потоке плазмы и низкая степень ионизации газовой компоненты плазмы. Посмотрите подробнее.

Электродуговой источник с двухступенчатым разрядом.

Источник с двухступенчатым вакуумно-дуговым разрядом обеспечивает получения высокоионизированной газовой плазмы в больших объемах. Используется для ионной обработки поверхности - ионного травления и ионной очистки поверхности, азотирования поверхности и создания других приповерхностных диффузионных слоев и других процессов.

Источник металлических высокоэнергетических ионов (имплантер).

Источник металлических высокоэнергетических (до 100 КэВ) ионов - имплантер - предназначен для проведения процессов ионной имплантации - легирования поверхности металлов для изменения физических и химических свойств (повышения твердости, износостойкости, коррозионной стойкости и т.д.) и комплексных процессов - нанесения покрытия с одновременной бомбардировкой высокоэнергетическими ионами (легирование и ионное перемешивание). Посмотрите подробнее.